序号

设备及主要配件名称

技术性能指标及配置

（每项指标前如有编号，仅作指示）

数量

备注

1

沉积室

1.1 腔体上配备多个法兰口，以便将来系统升级；所有法兰口必须用铜圈密封，以确保腔室能够实现和长期维持高真空；

1.2 配备有观察窗及挡板，能方便观察靶材和基片；

带有腔室烘烤系统；

* 1.3 真空度：≤7×10-7 Pa；

1.4 系统漏率：停泵关机 12小时后，真空度可达≤ 1 Pa

1

2

预真空室

2.1 预真空室和沉积室通过法兰口连接，通过闸板阀隔离，闸板阀开、关自动控制；

* 2.2 真空度：≤7×10-5Pa；

2.3 系统漏率：停泵关机12小时后，真空度可达≤5Pa；

2.4 自动进行样品的加载、卸载及传送操作，能自动感应样品架是否放置到位

1

3

高压反射高能电子衍射(RHEED）系统

* 3.1 可在最高100Pa的氧气气氛下正常工作；

▲3.2电子束能量在1-30KeV间可调，稳定性优于2×10-4/小时；

▲3.3 最大束斑直径小于40μm，最大束流不小于120μA；

3.4 包含高能电子发射源、实时CCD图像采集系统及数据获取软件；

1

4

磁控溅射系统

* 4.1 一套兼容超高真空环境的射频磁控溅射源，功率至少300W。要求可自动控制挡板的开启关闭，能与PLD同时沉积薄膜到衬底上；

* 4.2靶材尺寸为直径2″, 兼容直径50mm，厚度3-7mm，靶材应配有相应的挡板，且要求挡板可通过程序自动控制其开启关闭；

4.3 自动功率匹配器；

4.4 配有辐射屏蔽装置。

1

5

样品台系统

▲5.1 样品台位置与取向：样品台置于沉积室上部，样品面平行于地面并朝下；

* 5.2 样品台的尺寸：标准4英寸，样品托上配有自动挡板，挡板通过软件控制；

* 5.3 兼容以下尺寸：10mm×10mm、25mm×25mm、60mm×60mm三种，分别提供这三种规格的样品夹持器，夹持器可通过机械臂拆卸更换；

* 5.4  加热器工作温度：样品的最高加热温度≥850℃，温控精度：＜1℃；4英寸范围内温度不均匀性<1%；

▲5.5 加热器工作氛围：要求即使在一个大气压的氧气环境中，加热器也可在最高温度下工作；

5.6 样品台位置调整：样品台在竖直方向的位置可通过Z轴升降台手动调节，调节范围不小于±50mm，调节精度：≤0.5mm；

5.7样品旋转：样品托能够在水平面内实现360度自转，速率不小于30RPM，精度0.01度；转速不均匀性：≤ 0.1转/分；可通过软件控制样品托停留在特定角度；

1

6

靶材台系统

▲6.1 靶材台位置与取向：靶材台置于沉积室下部；

* 6.2 靶材台：数量至少3个2″靶材台配置，兼容直径50mm的靶材。配备六套靶材托；配有靶材挡板，各个靶材之间互相隔离，并有防止交叉污染；厂家响应该项指标时须详述具体方案。

6.3 靶材运动方式：每个靶材均可实现自转、公转和摆动；自转速率不小于20RPM，摆动速率不小于100度/秒；

6.4 在沉积过程中，靶材可同时自转和摆动，以实现激光对靶材的均匀烧蚀；

* 6.5 多靶共沉积模块：能实现3个靶材同时沉积，并能实现来自不同靶材的成分比例不同的薄膜的制备；

* 6.6 换靶方式：在不破坏生长室真空的前提下，通过机械手实现自动换靶。

1

7

真空实现及控制系统

7.1 配有真空组件的统一控制系统，可同时测量或控制真空、气流和阀门；

* 7.2 真空实现组件：所有真空腔均采用涡轮分子泵与无油机械干泵进行抽真空；整个系统应配备Pfeiffer或其以上质量的分子泵及配套进口干泵、高真空阀门及不锈钢抽气管路，分别用于对沉积室、预真空室和RHEED部件的抽真空；真空泵前需配防尘装置和消声装置进行保护和消除燥音；

7.3 配有相应的高真空计和低真空计，自动切换真空计档，实现从大气压到极限真空度的连续显示；

7.4 气压控制组件：

* 包含三路独立的气流通道（氧气、氮气或氩气），分别配备三套气体流量控制器；MFC的控制精度≤±1％，最大流量（100SCCM：1路，50SCCM：2路），最小重复精度为0.2sccm；

* 7.5 软件控制下，能够实现对沉积腔气压的实时反馈控制。气压的具体控制方式应有两种选择：1）软件控制下，分别设置MFC流量、分子泵抽速和阀导来实现期望气压值；2）通过软件设置期望气压值，系统自动调节MFC流量、分子泵抽速和阀导。对于第二种方式，整个过程在5-10秒内完成，气压控制精度：＜±1%。

1

8

光学组件包

 8.1 光学组件包由光束整形器、激光反射镜、焦距的透镜及稳定的光学镜片支架组成，所有部件的相对位置保持固定。。

为了避免激光可能带来的危险，要求整个光学组件包置于对248nm激光完全阻挡的防护罩中；

 8.2 光路系统要能够优化靶材上的激光光斑能量密度的均匀性，要求详述具体实现方式；

* 8.3系统需配备原位激光窗口更换部件。部件中装配有不少于6片的激光窗口材料，窗口材料的更换通过软件控制；

* 8.4 激光束扫描：实现激光在靶材上的扫描功能，兼容匀速扫描和变速扫描。

1

9

软件控制系统

操作软件提供系统的以下功能的自动控制：

 9.1可保存和提取参数的设置，自动记录设备运行的状态；

 9.2 激光器控制：激光的触发、脉冲频率和脉冲数量；

 9.3 马达控制：样品台旋转的方向和转速；样品挡板的关闭和打开；

* 9.4 靶材的公转、自传和摆动；

  9.5 温度控制：加热器温度的监测、设定及升降温速率；

  9.6 控制质量流量计及分子泵；

  9.7系统必须具有通过软件自动控制沉积室气压的功能；

1

10

实时监测/辅助系统

 10.1 石英晶振膜厚监控系统：能在电脑上实时监控膜厚，配备10片石英晶振片；

* 10.2 等离子动能探测器：用于监测薄膜沉积过程中到达衬底表面等离子体的能量，用于制定最佳工艺参数（如激光能量、光斑尺寸、气压以及靶材-衬底距离等）；量程：5-500eV；分辨率：3-5eV；

▲ 10.3 质谱仪：世界知名公司品牌，用于检测腔体中残余气体成分；

1

配件

11

准分子脉冲激光器

* 11.1 激光工作气体: KrF；

* 11.2 波长: 248 nm；

* 11.3 最大脉冲能量: 700 mJ；

* 11.4 最大脉冲频率: 10 Hz；

* 11.5 脉冲宽度: 25ns；

1

12

升级功能

▲12.1系统还需在不改变腔体结构的情况下，具有如下升级功能：

  （1）脉冲电子束沉积；

  （2）至少预留2个6英寸法兰，兼容直流、射频溅射源。

* 12.2 为了拓展系统的应用范围，要求在不改变靶材尺寸的前提下，系统可升级至6-8″样品的镀膜能力，以实例说明；

▲12.3系统可预留所有升级所需的软件功能。

1

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杨老师

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邮编：

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